据湖北省科技厅消息，武汉芯力科技术有限公司（简称“芯力科”）成功研发半导体混合键合设备，即将进入芯片生产企业开展验证。
芯力科2024年5月成立于光谷筑芯科技产业园，技术源自华中科技大学机械学院尹周平院士团队，瞄准三维异构集成与先进封装技术方向，专注于高精度键合、高分辨率电喷等核心技术与装备的研发及产业化应用，可为人工智能、存算一体、超算等高性能芯片制造提供工艺解决方案，曾获湖北省科学技术进步奖一等奖。
光刻机是在芯片晶圆这一单层楼上刻画出精密电路，键合装备，就是负责将上下两层楼严丝合缝地堆叠并粘合在一起。这是芯片进入后续工序前的最后一道精度关卡。芯力科设备的堆叠定位精度可达30纳米，运动控制精度更是突破至10纳米。在芯片与晶圆对位时，用于校准的标记点会被芯片本身完全遮挡，这就像隔着一栋完整的楼房，要精准对准楼后地面上的一枚一元硬币，难度可想而知。
芯力科自研了一套特殊光路系统，相当于给设备装上了能“拐弯的视线”，成功绕过遮挡的芯片，实现纳米级的精准锁定与对位。为保障设备的高精度稳定运行，企业建成800平方米的千级、200平方米的百级超洁净车间。目前，设备的大部分核心部件均由企业自研自产。（文 姜胜来）
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